工业制造中，很多电子元件生产过程中需要大量超纯水，且对水质要求特别严苛。随着工业技术的发展，电子元件的尺寸的缩小和精细程度的提高，对超纯水设备产水水质水量的要求日趋严格。ITRS(国际半导体技术蓝图)中规定的侵入式光刻技术中需要的浸没式超纯水，水质要求超过了国标中规定的电子水最高要求。

超纯水的电阻率、微粒子、气泡(溶解氧，溶解氮)和 TOC是非常重要的指标，略微差异可能导致元件生产过程的产品质量和合格率的下降，所以超纯水设备技术在工业的发展中是非常重要的。